De Aller-Bedste Bøger - over 12 mio. danske og engelske bøger
Levering: 1 - 2 hverdage

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Bag om Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Vis mere
  • Sprog:
  • Ukendt
  • ISBN:
  • 9781032386706
  • Indbinding:
  • Hardback
  • Sideantal:
  • 354
  • Udgivet:
  • 15. December 2023
  • Størrelse:
  • 156x0x234 mm.
  • Vægt:
  • 852 g.
  • 2-3 uger.
  • 9. Oktober 2024
På lager

Normalpris

Abonnementspris

- Rabat på køb af fysiske bøger
- 1 valgfrit digitalt ugeblad
- 20 timers lytning og læsning
- Adgang til 70.000+ titler
- Ingen binding

Abonnementet koster 75 kr./md.
Ingen binding og kan opsiges når som helst.

Beskrivelse af Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

Brugerbedømmelser af Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes