Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
- Indbinding:
- Hardback
- Sideantal:
- 354
- Udgivet:
- 15. December 2023
- Størrelse:
- 156x0x234 mm.
- Vægt:
- 852 g.
- 2-3 uger.
- 9. Oktober 2024
På lager
Normalpris
Abonnementspris
- Rabat på køb af fysiske bøger
- 1 valgfrit digitalt ugeblad
- 20 timers lytning og læsning
- Adgang til 70.000+ titler
- Ingen binding
Abonnementet koster 75 kr./md.
Ingen binding og kan opsiges når som helst.
- 1 valgfrit digitalt ugeblad
- 20 timers lytning og læsning
- Adgang til 70.000+ titler
- Ingen binding
Abonnementet koster 75 kr./md.
Ingen binding og kan opsiges når som helst.
Beskrivelse af Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.
Brugerbedømmelser af Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
Giv din bedømmelse
For at bedømme denne bog, skal du være logget ind.Andre købte også..
Find lignende bøger
Bogen Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes findes i følgende kategorier:
- Business og læring > Computer og IT
- Teknologi, ingeniørvidenskab og landbrug > Teknologi: generelle emner > Ingeniørvidenskab: generelt
- Teknologi, ingeniørvidenskab og landbrug > Industriel kemi og produktionsteknologi > Industriel kemi og kemiteknik
- Teknologi, ingeniørvidenskab og landbrug > Maskinteknik og materialer > Maskinteknik
- Teknologi, ingeniørvidenskab og landbrug > Elektronik og kommunikationsteknik > Elektronik teknik > Automatisk styringsteknik og reguleringsteknik
- Teknologi, ingeniørvidenskab og landbrug > Byggeteknik, landmåling og byggeri > Hydroteknik
- Databehandling og informationsteknologi > Informatik > Kunstig intelligens > Machine learning
© 2024 Pling BØGER Registered company number: DK43351621