Theory and Application of Laser Chemical Vapor Deposition
- Indbinding:
- Hardback
- Sideantal:
- 396
- Udgivet:
- 31. oktober 1995
- Udgave:
- 1995
- Størrelse:
- 229x152x27 mm.
- Vægt:
- 1710 g.
- 8-11 hverdage.
- 21. november 2024
Normalpris
Abonnementspris
- Rabat på køb af fysiske bøger
- 1 valgfrit digitalt ugeblad
- 20 timers lytning og læsning
- Adgang til 70.000+ titler
- Ingen binding
Abonnementet koster 75 kr./md.
Ingen binding og kan opsiges når som helst.
- 1 valgfrit digitalt ugeblad
- 20 timers lytning og læsning
- Adgang til 70.000+ titler
- Ingen binding
Abonnementet koster 75 kr./md.
Ingen binding og kan opsiges når som helst.
Beskrivelse af Theory and Application of Laser Chemical Vapor Deposition
In this monograph, the authors offer a comprehensive examination of the latest research on Laser Chemical Vapor Deposition (LCVD). Chapters explore the physics of LCVD as well as the principles of a wide range of related phenomena-including laser-matter interactions, heat transfer, fluid flow, chemical kinetics, and adsorption.
Brugerbedømmelser af Theory and Application of Laser Chemical Vapor Deposition
Giv din bedømmelse
For at bedømme denne bog, skal du være logget ind.Andre købte også..
Find lignende bøger
Bogen Theory and Application of Laser Chemical Vapor Deposition findes i følgende kategorier:
© 2024 Pling BØGER Registered company number: DK43351621