De Aller-Bedste Bøger - over 12 mio. danske og engelske bøger
Levering: 1 - 2 hverdage
Hjælp
Login
  1. Forside
  2. Bøger
  3. Business og læring
  4. Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus

Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus

af Juergen Geiser
Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus af Juergen Geiser
Bag om Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus

Discusses the study of simulating the growth of a thin film by chemical vapour deposition (CVD) processes. This title presents underlying hierarchy of models for low-temperature and low-pressure plasma in order to discuss the processes that can be used to implant or deposit thin layers of important materials.

Vis mere
  • Sprog:
  • Engelsk
  • ISBN:
  • 9781621003656
  • Indbinding:
  • Hardback
  • Sideantal:
  • 144
  • Udgivet:
  • 1. januar 2012
  • Størrelse:
  • 162x234x14 mm.
  • Vægt:
  • 352 g.
  • Ukendt - mangler pt..

Normalpris

Abonnementspris

- Rabat på køb af fysiske bøger
- 1 valgfrit digitalt ugeblad
- 20 timers lytning og læsning
- Adgang til 70.000+ titler
- Ingen binding

Abonnementet koster 75 kr./md.
Ingen binding og kan opsiges når som helst.

Bag om Juergen Geiser

Vis alle bøger af Juergen Geiser

Beskrivelse af Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus

Discusses the study of simulating the growth of a thin film by chemical vapour deposition (CVD) processes. This title presents underlying hierarchy of models for low-temperature and low-pressure plasma in order to discuss the processes that can be used to implant or deposit thin layers of important materials.

Brugerbedømmelser af Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus



Andre købte også..
Find lignende bøger
Bogen Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus findes i følgende kategorier: