Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of III-Nitride Thin Films
- Indbinding:
- Paperback
- Sideantal:
- 180
- Udgivet:
- 17. marts 2014
- Størrelse:
- 229x152x10 mm.
- Vægt:
- 272 g.
- 2-3 uger.
- 14. december 2024
Forlænget returret til d. 31. januar 2025
Normalpris
Abonnementspris
- Rabat på køb af fysiske bøger
- 1 valgfrit digitalt ugeblad
- 20 timers lytning og læsning
- Adgang til 70.000+ titler
- Ingen binding
Abonnementet koster 75 kr./md.
Ingen binding og kan opsiges når som helst.
- 1 valgfrit digitalt ugeblad
- 20 timers lytning og læsning
- Adgang til 70.000+ titler
- Ingen binding
Abonnementet koster 75 kr./md.
Ingen binding og kan opsiges når som helst.
Brugerbedømmelser af Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of III-Nitride Thin Films
Giv din bedømmelse
For at bedømme denne bog, skal du være logget ind.Andre købte også..
Find lignende bøger
Bogen Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of III-Nitride Thin Films findes i følgende kategorier: