Handbook of Advanced Semiconductor Technology and Computer Systems
- Indbinding:
- Paperback
- Sideantal:
- 942
- Udgivet:
- 24. juni 2012
- Udgave:
- 11988
- Størrelse:
- 155x235x48 mm.
- Vægt:
- 1442 g.
- 8-11 hverdage.
- 9. december 2024
Normalpris
Abonnementspris
- Rabat på køb af fysiske bøger
- 1 valgfrit digitalt ugeblad
- 20 timers lytning og læsning
- Adgang til 70.000+ titler
- Ingen binding
Abonnementet koster 75 kr./md.
Ingen binding og kan opsiges når som helst.
- 1 valgfrit digitalt ugeblad
- 20 timers lytning og læsning
- Adgang til 70.000+ titler
- Ingen binding
Abonnementet koster 75 kr./md.
Ingen binding og kan opsiges når som helst.
Beskrivelse af Handbook of Advanced Semiconductor Technology and Computer Systems
Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a technique widely accepted in microelectronics for the deposition of amorphous dielectric films such as silicon nitride and silicon oxide. Batch etching reactors and etching processes are approaching ma turity after more than ten years of development.
Brugerbedømmelser af Handbook of Advanced Semiconductor Technology and Computer Systems
Giv din bedømmelse
For at bedømme denne bog, skal du være logget ind.Andre købte også..
Find lignende bøger
Bogen Handbook of Advanced Semiconductor Technology and Computer Systems findes i følgende kategorier:
© 2024 Pling BØGER Registered company number: DK43351621