De Aller-Bedste Bøger - over 12 mio. danske og engelske bøger
Levering: 1 - 2 hverdage
Hjælp
Login
  1. Forside
  2. Bøger
  3. Business og læring
  4. Videnskab
  5. Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System

Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System

af Seiji Samukawa

indgår i SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology serien

Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System af Seiji Samukawa
Bag om Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System

Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data.

Vis mere
  • Sprog:
  • Engelsk
  • ISBN:
  • 9784431547945
  • Indbinding:
  • Paperback
  • Sideantal:
  • 40
  • Udgivet:
  • 17. februar 2014
  • Udgave:
  • 2014
  • Størrelse:
  • 155x235x0 mm.
  • Vægt:
  • 949 g.
  • 8-11 hverdage.
  • 20. november 2024
På lager

Normalpris

Abonnementspris

- Rabat på køb af fysiske bøger
- 1 valgfrit digitalt ugeblad
- 20 timers lytning og læsning
- Adgang til 70.000+ titler
- Ingen binding

Abonnementet koster 75 kr./md.
Ingen binding og kan opsiges når som helst.

Bag om Seiji Samukawa

Vis alle bøger af Seiji Samukawa

Beskrivelse af Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System

Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data.

Brugerbedømmelser af Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System



Andre købte også..
Find lignende bøger
Bogen Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System findes i følgende kategorier: