Chemical-Mechanical Polishing - Fundamentals and Challenges: Volume 566
indgår i MRS Proceedings serien
- Indbinding:
- Hardback
- Sideantal:
- 281
- Udgivet:
- 10. februar 2000
- Størrelse:
- 157x234x23 mm.
- Vægt:
- 591 g.
- 8-11 hverdage.
- 7. december 2024
På lager
Normalpris
Abonnementspris
- Rabat på køb af fysiske bøger
- 1 valgfrit digitalt ugeblad
- 20 timers lytning og læsning
- Adgang til 70.000+ titler
- Ingen binding
Abonnementet koster 75 kr./md.
Ingen binding og kan opsiges når som helst.
- 1 valgfrit digitalt ugeblad
- 20 timers lytning og læsning
- Adgang til 70.000+ titler
- Ingen binding
Abonnementet koster 75 kr./md.
Ingen binding og kan opsiges når som helst.
Beskrivelse af Chemical-Mechanical Polishing - Fundamentals and Challenges: Volume 566
This book brings together many of the active players in the field to focus on the interdisciplinary nature of these challenges. It reflects, to some extent, the role played by both academic institutions and multinational corporations in opening up the frontiers in the field of CMP for wider dissemination. Both experimental and theoretical contributions are included.
Brugerbedømmelser af Chemical-Mechanical Polishing - Fundamentals and Challenges: Volume 566
Giv din bedømmelse
For at bedømme denne bog, skal du være logget ind.Andre købte også..
Find lignende bøger
Bogen Chemical-Mechanical Polishing - Fundamentals and Challenges: Volume 566 findes i følgende kategorier:
© 2024 Pling BØGER Registered company number: DK43351621