Semiconductor IC Plasma Dry Etching Hologram pattern
- Indbinding:
- Paperback
- Sideantal:
- 134
- Udgivet:
- 21. august 2020
- Størrelse:
- 152x229x8 mm.
- Vægt:
- 204 g.
- 2-3 uger.
- 10. december 2024
På lager
Normalpris
Abonnementspris
- Rabat på køb af fysiske bøger
- 1 valgfrit digitalt ugeblad
- 20 timers lytning og læsning
- Adgang til 70.000+ titler
- Ingen binding
Abonnementet koster 75 kr./md.
Ingen binding og kan opsiges når som helst.
- 1 valgfrit digitalt ugeblad
- 20 timers lytning og læsning
- Adgang til 70.000+ titler
- Ingen binding
Abonnementet koster 75 kr./md.
Ingen binding og kan opsiges når som helst.
Beskrivelse af Semiconductor IC Plasma Dry Etching Hologram pattern
Novel semiconductor IC process to solve the tough issue of anti-fake products"There is a capability to solve the issue of anti-fake products by the expertise from other field. It is terrific that something is never been thought before in this field. It looks like a magic on the process that never happened previously.""The magic of materials science is rooted in the connotation of basic physics; to the layman, it looks like a magical process", but it is just-"the display of profound knowledge and strength!"
Brugerbedømmelser af Semiconductor IC Plasma Dry Etching Hologram pattern
Giv din bedømmelse
For at bedømme denne bog, skal du være logget ind.Andre købte også..
© 2024 Pling BØGER Registered company number: DK43351621